第22回流動化・粒子プロセッシングシンポジウム(旧名称:流動層シンポジウム)


第12回反応装置・プロセスシンポジウム




2016年12月8日(木)・9日(金)
東京大学生産技術研究所 [An棟]

講演申し込み締切

2016年09月16日(金) 【延長】2016年09月23日(金)
お申込み多数につき、講演のお申込みを締め切らせていただきました。
ありがとうございました。
講演お申込みについてのお問合せ等は事務局までご連絡ください。


講演申し込み要項

本ページ末尾のフォームからお申込みください。
お申込みいただいた方へは数日中に事務局から確認メールをお送りいたします。
  1週間以上経ってもメールが届かない場合は、お手数ですが事務局宛にご一報
  ください。
  事務局 : contact@dem.t.u-tokyo.ac.jp (@を半角にしてご利用ください)


討論主題

  1. 流動層が関連する工学・技術
  2. 反応工学・プロセスシステム
  3. 気泡・液滴・微粒子分散工学
  4. 医薬品・バイオエンジニアリング
  5. 数値シミュレーション
  6. ナノテクノロジー

発表形式

発表形式 : 口頭またはポスター
■ 口頭発表(講演15分、討論5分)
■ ポスター発表
・研究領域および内容の未発表・既発表の別は問いません。
・企業での開発事業や実践的事例の紹介を歓迎します。
・学生のポスター発表について、英語で記載されたポスターのみ学生賞の対象とな
 ります。(ただし、予稿は日本語で作成していただいても結構です)


講演申込フォーム

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  講演お申込みについてのお問合せ等は事務局までご連絡ください。
講演者のかたは、当ページでの講演申込に加えて Registration ページ での参加申込
  も併せてお願いいたします。

出展企業(五十音順)

株式会社アントンパール・ジャパン
株式会社キーエンス
株式会社構造計画研究所
株式会社CD-adapco
(シーメンスPLMソフトウェア)
ダンテック・ダイナミクス株式会社
トーワ電機株式会社
ビジュアルテクノロジー株式会社
株式会社フォトロン
プロメテック・ソフトウェア株式会社

広告企業(五十音順)

株式会社アントンパール・ジャパン
株式会社構造計画研究所
GDEPソリューションズ株式会社
株式会社CPFD Lab.
JPKインスツルメンツAG
菅原精機株式会社
ダンテック・ダイナミクス株式会社
トーワ電機株式会社
日清エンジニアリング株式会社
フロイント産業株式会社
ホソカワミクロン株式会社

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