第22回流動化・粒子プロセッシングシンポジウム(旧名称:流動層シンポジウム)


第12回反応装置・プロセスシンポジウム




2016年12月8日(木)・9日(金)
東京大学生産技術研究所 [An棟]

発表形式について

【口頭発表】
■ 講演時間は1件当たり17分です(質疑応答は約3分)。
■ プロジェクター、レーザーポインタ,マイクは当方にて準備しております。
■ PCは講演者ご自身でお持込み下さい。
※ 事務局にて予備PCの準備をしております。不測の事態に備えてUSBメモリ等でバックアップをご準備ください。

【ポスター発表】
■ 英語で書かれたポスターのみが、学生賞の対象となります。
■ ポスターボードは縦1750 mm×横1150 mm のボードを準備します。
  ボードサイズ内に収まるようポスターを作成下さい。

平成28年度 流動化・粒子プロセッシングシンポジウム賞 受賞者決定

流動層分科会 会員各位
前略
平成28年度流動化・粒子プロセッシングシンポジウム賞(技術部門)の1件の
最終候補者が公示期間満了につき受賞が承認されましたのでお知らせします。
                                 草々
平成28年11月29日
平成28年度流動化・粒子プロセッシングシンポジウム賞
選考委員長 中里 勉
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平成28年度流動化・粒子プロセッシングシンポジウム賞受賞者
■技術部門
岩佐 泰之、柳川 真一朗(JXエネルギー株式会社)、
広畑 修(千代田化工建設株式会社)
「FCA(Fluid Catalytic Aromaforming)プロセスの開発」
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出展企業(五十音順)

株式会社アントンパール・ジャパン
株式会社キーエンス
株式会社構造計画研究所
株式会社CD-adapco
(シーメンスPLMソフトウェア)
ダンテック・ダイナミクス株式会社
トーワ電機株式会社
ビジュアルテクノロジー株式会社
株式会社フォトロン
プロメテック・ソフトウェア株式会社

広告企業(五十音順)

株式会社アントンパール・ジャパン
株式会社構造計画研究所
GDEPソリューションズ株式会社
株式会社CPFD Lab.
JPKインスツルメンツAG
菅原精機株式会社
ダンテック・ダイナミクス株式会社
トーワ電機株式会社
日清エンジニアリング株式会社
フロイント産業株式会社
ホソカワミクロン株式会社

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